產品介紹
NEMST-Waterfall2008 或Matrix2008
捲對捲式常壓電漿清洗機
- 電漿電極直接架設於膜材傳動滾輪上。 介電屏障放電(DBD)電漿電極設計。
- 直接式或間接式電漿設計。
- 電極幅寬可以客製化。
- 電極擴充性高，處理速度快。
- 可適用各種捲材材料。
- 可作產品單面處理。
- 反應氣體可直接使用空氣（CDA）或氮氣。
- 氣體及電力運作成本低。
- 電極有效幅寬100 mm~2300 mm(客製化，寬度可以再加大)
- 一般可處理的速度為0.5至10 m/min。(依製程需求，可進一步討論)
- 電漿穩定性、均勻度高。
- (1) 各式軟板之表面清潔與改質(表面活化與粗糙度之改善)，適用於鍍金、鍍銅或出貨前之處理。
- (2) 觸控或平面顯示器各式film材之表面處理。
- (3) 各式電子或非電子元件/材料之表面清潔與改質，可適用於多種金屬或非金屬材料的處理(如PI、PET、PE、塑膠等)。
- (4) 成長薄膜之應用。